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来源：大半导体产业网

12月17日，恰逢沈阳芯源微电子设备股份有限公司成立二十周年，公司正式发布前道浸没式高产能涂胶显影机新品FT（III）300。公司董事长兼总裁宗润福表示：“这是公司发展的又一重要里程碑，成立二十年来，公司始终聚焦于涂胶显影技术领域，可谓二十年磨一剑。本次前道浸没式高产能涂胶显影机的成功推出，将进一步丰富公司的产品结构，实现公司在前道晶圆加工环节28nm及以上工艺节点的全覆盖，并可持续向更高工艺等级迭代，巩固和提升公司在行业内的技术竞争优势。未来芯源微将继续致力于产品创新和技术提升，成为受社会尊重的世界级企业。

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公司前道设计部总监、浸没式机台主设计师程虎详细介绍了该款机台的技术性能及客户端验证情况，“作为芯源微自主开发的第三代机型，浸没式高产能涂胶显影机具有高产能、高工艺能力、高洁净度、高扩展性和易维护性等优势。目前，该款机型已通过客户端验证，达到客户量产要求，成功打破国外垄断，填补国内空白”。

“该款机型采用独创的对称分布高产能架构，满配36 Spin处理单元，搭载公司自主研发的双向同步取放机械手，可大幅提升整机的机械传送产能和传送精度，能够匹配全球主流光刻机联机生产，可在复杂工艺下实现300片以上产能。此外，机台还搭载了公司开发的精确温度调制（PTM）技术，使热盘烘烤温度均匀性达到业界领先水平；全新的Spin单元实时控制技术，可有效提升机台运动控制及流体控制精度、响应性及稳定性，持续为客户降低成本；通过仿真优化设计整机流场，确保内部微环境均匀稳定，提升整机的洁净度等级；全系列辅助功能单元，包含AOI、WEE系统等，可在线式检测晶圆工艺缺陷，减少不良品流出。”

“该款机型通过选配可全面覆盖KrF、ArF dry、ArF浸没式等多种光刻技术，也适用包括SOC、SOH、SOD等在内的其他旋涂类应用。为应对未来光刻机产能的不断提升，该机型还可扩充至更多处理单元，由目前的36 Spin扩展为48 Spin，产能提升到每小时360片，同时实现在低占地面积下兼顾机台易维护性，有效提升机台维护效率。”